含氟氣體：目前全球電子氣體市場(chǎng)中含氟系列電子氣體約占總量 30%左右。含氟電子氣體是電子信息材料領(lǐng)域特種電子氣體的重要組成部分，主要用作清洗劑、蝕刻劑，也可用于摻雜劑、成膜材料等。典型的傳統(tǒng)含氟電子氣體包括 CF4、C2F6、C3F8、C4F8、C4F6、CHF3、SF6、NF3 等。

四氟甲烷

需求量：微電子工業(yè)中用量較大的等離子蝕刻氣體

應(yīng)用領(lǐng)域：電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等

主要公司：雅克科技子公司科美特、中核紅華、河南氟能、華特股份及 永晶化工，科美特

六氟乙烷

應(yīng)用領(lǐng)域：用作等離子蝕刻氣體、器件表面清洗劑，還可用于光纖生產(chǎn)與低溫制冷

主要公司：括華特股份、中船重工 718 所

三氟化氮

需求量：2021 年 15800 噸，未來(lái) 3 年國(guó)內(nèi) NF3市場(chǎng)需求復(fù)合增速將為 29%左右

應(yīng)用領(lǐng)域：化學(xué)氣相淀積（CVD）裝置的清洗

主要公司：派瑞特氣、曉星新材料、昊華科技下屬黎明院、雅克科技子公司科美特

六氟化硫

應(yīng)用領(lǐng)域：電子級(jí)六氟化硫則主要應(yīng)用于半導(dǎo)體及面板晶示器件生產(chǎn)工藝中的蝕刻與清洗

主要公司：雅克科技子公司科美特為國(guó)內(nèi)六氟化硫龍頭

2）硅烷：用于制作太陽(yáng)能電池、光導(dǎo)纖維和光電傳感器 。國(guó)內(nèi)電子級(jí)硅烷主要生產(chǎn)商包括硅烷科技（新三板掛牌）、中寧硅業(yè)（多氟多子公司）、天宏瑞科（陜西有色天宏與美國(guó) REC 合資）等，興洋科技、中能硅業(yè)等廠商自配多晶硅產(chǎn)能，主要產(chǎn)品以光伏等領(lǐng)域應(yīng)用為主。

3）硼烷：在半導(dǎo)體工業(yè)中用作氣態(tài)雜質(zhì)源、離子注入和硼摻雜氧化擴(kuò)散的摻雜劑，主要用做 P-型半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的摻雜劑。北方特氣已經(jīng)成為我國(guó)境內(nèi)半導(dǎo)體用乙硼烷主要供應(yīng)源。華特股份募投項(xiàng)目中包含 3 萬(wàn)噸乙硼烷產(chǎn)能

4）乙硅烷：由于乙硅烷有別于硅烷的特殊化學(xué)特性(易分解)，在 PECVD、LPCVD 制造工藝中其成膜溫度比硅烷低很多、成膜速率快、膜質(zhì)量平滑均勻，乙硅烷分子中含硅量比硅烷高許多，因此，未來(lái)乙硅烷將會(huì)有廣闊的使用空間

5）磷烷、砷烷：磷烷、砷烷均為半導(dǎo)體工藝中非常重要的電子氣體，多用于離子注入、摻雜等工藝中。由于砷烷半導(dǎo)體工藝中的重要材料，迄今為止又尚無(wú)代用品，多年來(lái)國(guó)外一直對(duì)我國(guó)進(jìn)口砷烷進(jìn)行管制及禁運(yùn)，對(duì)我國(guó)國(guó)家安全及經(jīng)濟(jì)發(fā)展構(gòu)成威脅，所以，生產(chǎn)出中國(guó)制造的高純砷烷意義重大并十分迫切。

6）三氯化硼：高純?nèi)然鹬饕糜?IC 制造工藝中技術(shù)要求很高、對(duì)電路成品率影響很大的化學(xué)氣相淀積（CVD）成膜過程和等離子干法刻蝕過程，會(huì)對(duì) IC 產(chǎn)品的品質(zhì)帶來(lái)很關(guān)鍵的作用，并且不能使用其他電子氣體進(jìn)行取代。主要布局公司：深冷能源和湖北荊州太和氣體

7）鍺烷：半導(dǎo)體工藝中，鍺烷作為化學(xué)氣相沉積硅-鍺膜的前體，主要用于制造電子器件，如集成電路、光電器件，特別是制備異質(zhì)結(jié)二極晶體管：當(dāng)前國(guó)內(nèi)已有或規(guī)劃有鍺烷產(chǎn)能的公司主要包括博純氣體、華特股份、太和氣體及中環(huán)裝備參股公司啟源領(lǐng)先，其中博純氣體為國(guó)內(nèi)龍頭